Plasma Process Intelligence Platform

從電漿產生 → 即時監測 → 閉環控制 → AI優化
讓電漿製程變成可觀測、可控制、可預測

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HIPIMS、MF 與 Pulsed Power 技術，提供穩定高密度電漿來源。

OES 光譜分析，即時掌握電漿中物種與能量狀態。

整合製程與感測數據，連結產品品質。

PID 與回饋控制，穩定 reactive sputtering 製程。

導入 AI 與數據分析，從控制走向預測製程。

/* === Plasma Categories Section === */

Plasma Generation

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