標籤: MF SPUTTER

中頻電源進行反應式濺射鍍膜使用OES來做製程監控協助Lab值的穩定

5 月 22, 2024

—

作者:

Robert Jann

分類: 電漿製程監控

利用中頻電源進行反應式濺射鍍膜時，可透過光學發射光譜（OES）來監控TiN薄膜的Lab值。OES可以測量電漿中…