Plasma Circus
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Cutting-Edge Plasma Monitoring Techniques for Process D…
Optimizing HIPIMS Processes in Real-Time by Pulse-Resol…
Coping with Limited Data Amounts When Applying Artifici…
Example 1: Ar/Cr Plasma (spectral resolution approx. 0….
利用中頻電源進行反應式濺射鍍膜時，可透過光學發射光譜（OES）來監控TiN薄膜的Lab值。OES可以測量電漿中…
以下是TiN反應式濺射鍍膜過程中可參考的實際OES量測光譜： Ti I 215.2 nm發射譜線： 此光譜顯示…
Lab值是國際照明委員會（CIE）定義的一種色彩空間，用於表示顏色的亮度、色度和飽和度。在反應式電漿磁控濺射鍍…
