Plasma Circus
推薦: 用於製程開發、生產控制和機器學習的尖端等離子體監控技術
4 月 30, 2025
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作者:
Robert Jann
分類:
Plasma Process Monitor and Control
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電漿製程監控
推薦: 通過脈衝分辨光譜和電等離子體製程控制即時優化 HIPIMS 製程
4 月 30, 2025
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作者:
Robert Jann
分類:
HIPIMS Pulse-Resolved Process Control
推薦: 在工業過程控制中應用人工智慧時應對有限的數據量
4 月 30, 2025
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作者:
Robert Jann
分類:
AI Process Control and Modelling
在SpecLine軟體內使用Polynomial and Wiener-Fourier Filters濾波器
5 月 24, 2024
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作者:
Robert Jann
分類:
Plasma Spectra Analysis
中頻電源進行反應式濺射鍍膜使用OES來做製程監控協助Lab值的穩定
5 月 22, 2024
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作者:
Robert Jann
分類:
電漿製程監控
TiN反應式濺射鍍膜過程中可用的光譜參數
5 月 22, 2024
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作者:
Robert Jann
分類:
電漿製程監控
Lab值與製程控制參數之間的關係
5 月 22, 2024
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作者:
Robert Jann
分類:
電漿製程監控
Full control of reactive pulse and HIPIMS processes PLASUS EMICON SA latest sensor development 完全控制反應式脈衝和 HIPIMS 製程 PLASUS EMICON SA 最新開發的感測器
5 月 22, 2019
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作者:
Robert Jann
分類:
Closed Loop PID Control For Reactive Sputtering Applications
Advanced Coatings in HIPIMS hybrid MF magnetron sputtering with the aid of EMICON closed loop feedback control 借助EMICON閉環反饋控制，在HIPIMS混合MF磁控濺射中的先進塗層。
3 月 30, 2017
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作者:
Robert Jann
分類:
Closed Loop PID Control For Reactive Sputtering Applications
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Magetron Sputtering Sources
HIPIMS hybrid/super-imposed MF for a perfect magnetron sputtering process HIPIMS混合/疊加MF用於完美的磁控濺射工藝。
3 月 30, 2017
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作者:
Robert Jann
分類:
HIPIMS hybrid MF sputtering
,
HIPIMS Magnetron Sputter
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