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準直鏡頭上的蜂巢式防鍍裝置(honey comb protection device)，不是filter，防鍍裝置上的蜂巢結構，主要是靠內徑的大小來阻擋原子與分子在特殊真空壓力下進入蜂巢內管。這是根據自由平均路徑的計算得到的結果。蜂巢結構的深度(此管狀裝置的長度)正好將所有會進入到深處汙染光學鏡片(鏡頭)都擋住。根據準直徑頭擺放的位置來決定多久要清潔一次。PECVD的應用，如果擺放位置正確，可能兩到三年的使用還不需要清潔。大部分需要清潔的應用會是濺鍍(sputtering)，有些擺放位置比較接近靶材鍍膜的表面，多久需要清潔一次，很難說得準。若擺放在很近鍍膜區域而且一定會被鍍到的位置，當鍍膜製程的操作壓力高，自由平均路徑短，此時蜂巢裝置的表面很快會被鍍上一層厚厚的鍍膜，就需要經常清潔。如果操作壓力低，自由平均路徑變長，在蜂巢裝置上的鍍膜，會進入管內且表面上的鍍膜雖會增加但是增加速度較慢，此時清潔的時間間隔會拉長不會很頻繁。何時需要做清潔? 可以在EMICON軟體上加以特殊的endpoint設定，在每一個主要的monitoring tracks上都做一個lower limit的設定，一旦所有條件都達到，就可以輸出一個digital TTL signal通知需要清潔了。原理是: 蜂巢結構如果被鍍膜遮蔽，所有的監視譜線的強度會同時減弱，而不是其中的某些譜線強度減弱。因為強度的衰減是全面性的發生，所以很容易由設定的終點條件來判斷是否需要做清潔。
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准直镜头上的蜂巢式防镀装置(honey comb protection device)，不是filter，防镀装置上的蜂巢结构，主要是靠内径的大小来阻挡原子与分子在特殊真空压力下进入蜂巢内管。这是根据自由平均路径的计算得到的结果。蜂巢结构的深度(此管状装置的长度)正好将所有会进入到深处污染光学镜片(镜头)都挡住。根据准直径头摆放的位置来决定多久要清洁一次。PECVD的应用，如果摆放位置正确，可能两到三年的使用还不需要清洁。大部分需要清洁的应用会是溅镀(sputtering)，有些摆放位置比较接近靶材镀膜的表面，多久需要清洁一次，很难说得准。若摆放在很近镀膜区域而且一定会被镀到的位置，当镀膜制程的操作压力高，自由平均路径短，此时蜂巢装置的表面很快会被镀上一层厚厚的镀膜，就需要经常清洁。如果操作压力低，自由平均路径变长，在蜂巢装置上的镀膜，会进入管内且表面上的镀膜虽会增加但是增加速度较慢，此时清洁的时间间隔会拉长不会很频繁。何时需要做清洁? 可以在EMICON软件上加以特殊的endpoint设定，在每一个主要的monitoring tracks上都做一个lower limit的设定，一旦所有条件都达到，就可以输出一个digital TTL signal通知需要清洁了。原理是: 蜂巢结构如果被镀膜遮蔽，所有的监视谱线的强度会同时减弱，而不是其中的某些谱线强度减弱。因为强度的衰减是全面性的发生，所以很容易由设定的终点条件来判断是否需要做清洁。
