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Plasma Process Intelligence Platform

從電漿產生 → 即時監測 → 閉環控制 → AI優化
讓電漿製程變成可觀測、可控制、可預測

Plasma Generation

HIPIMS、MF 與 Pulsed Power 技術，提供穩定高密度電漿來源。

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Plasma Diagnostics

OES 光譜分析，即時掌握電漿中的物種與能量狀態。

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Process Monitoring

整合膜厚與感測數據，連結製程與最終產品品質。

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Closed-loop Control

PID 與回饋控制，穩定 reactive sputtering 製程。

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AI & Data Modelling

導入 AI 與數據分析，從控制製程走向預測製程。

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Plasma Spectra Analysis HIPIMS PID Control Optics AI Modelling
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