Plasma Circus – All skills related to MF, HIPIMS, Plasma Emission Monitoring and Controlling for reactive plasma

在SpecLine軟體內使用Polynomial and Wiener-Fourier Filters濾波器

5 月 24, 2024

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作者:

Robert Jann

分類: Plasma Spectra Analysis
中頻電源進行反應式濺射鍍膜使用OES來做製程監控協助Lab值的穩定

5 月 22, 2024

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作者:

Robert Jann

分類: 電漿製程監控
TiN反應式濺射鍍膜過程中可用的光譜參數

5 月 22, 2024

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作者:

Robert Jann

分類: 電漿製程監控
Lab值與製程控制參數之間的關係

5 月 22, 2024

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作者:

Robert Jann

分類: 電漿製程監控
Full control of reactive pulse and HIPIMS processes PLASUS EMICON SA latest sensor development 完全控制反應式脈衝和 HIPIMS 製程 PLASUS EMICON SA 最新開發的感測器

5 月 22, 2019

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作者:

Robert Jann

分類: Closed Loop PID Control For Reactive Sputtering Applications
Advanced Coatings in HIPIMS hybrid MF magnetron sputtering with the aid of EMICON closed loop feedback control 借助EMICON閉環反饋控制，在HIPIMS混合MF磁控濺射中的先進塗層。

3 月 30, 2017

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作者:

Robert Jann

分類: Closed Loop PID Control For Reactive Sputtering Applications, Magetron Sputtering Sources
HIPIMS hybrid/super-imposed MF for a perfect magnetron sputtering process HIPIMS混合/疊加MF用於完美的磁控濺射工藝。

3 月 30, 2017

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作者:

Robert Jann

分類: HIPIMS hybrid MF sputtering, HIPIMS Magnetron Sputter
What is the purpose of using remote LAN control via EMICON RC DLL? (使用LAN遠端控制的目的)

7 月 4, 2013

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作者:

Robert Jann

分類: EMICON accessories
在APCVD及CCVD中的应用中使用光谱监测的工艺控制

11 月 20, 2012

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作者:

Robert Jann

分類: 電漿製程監控
Homogeneity & Uniformity

7 月 3, 2012

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作者:

Robert Jann

分類: Closed Loop PID Control For Reactive Sputtering Applications