Plasma Circus Home Plasma Process Intelligence Platform Plasma Process Intelligence Platform 從電漿產生 → 即時監測 → 閉環控制 → AI優化 讓電漿製程變成可觀測、可控制、可預測 Plasma Generation HIPIMS、MF 與 Pulsed Power 技術，提供穩定且高密度的電漿來源， 決定薄膜品質與製程窗口。 Explore → Plasma Diagnostics 透過 OES 光譜與非接觸式量測，即時解析電漿中的物種與能量狀態， 建立製程可視化能力。 Explore → Process Monitoring 結合膜厚、顏色與多感測器數據，將電漿狀態連結至最終產品結果， 實現全流程監控。 Explore → Closed-loop Control 利用 PID 與即時回饋控制技術，動態調整 reactive gas 與電源， 確保製程穩定與一致性。 Explore → AI & Data Modelling 導入機器學習與數據分析，從控制製程進化為預測製程， 提升良率與生產效率。 Explore → Plasma Spectra Analysis HIPIMS Process PID Control Optical Components AI Process Modelling