回顾等离子工艺使用OES (Optical Emission Spectroscopy)的历史，早在1980年代，已有不少大型的玻璃工业尝试使用OES来协助等离子工艺在量化生产的稳定性，同时，也利用OES的特殊性能开发等离子工艺能够使用的新材料。1990年初期，OES著名的代表产品称为PEM (Plasma Emission Monitor)正式在生产大楼帷幕玻璃的等离子溅射流水线上使用，从single Low-e的能源玻璃进化到更具节能效果的double Low-e规范，到了1990年末期，更应用在平面显示器的镀膜工艺上。在2000年以前发展的PEM，多半采用 窄通滤光器 NBPF (Narrow Band-Passed Filter)搭配一个极为灵敏的 光电倍增管 PMT (Photo Multiplier Tube)，透过一套单晶片的处理器计算侦测讯号强度与内部设定强度的差异，将差异值输出到控制反应气体的流量单元: 早期使用的多半是一个