All skills related to MF, HIPIMS, Plasma Emission Monitoring and Controlling for reactive plasma
In pulse and HIPIMS plasmas the degree of ionization is one main factor for layer density while layer stoichiometry is
Recently lots of requests on advanced coating configuration in HIPIMS magnetron sputtering: higher deposition rate and high coating layer quality
Power supply is very important in magnetron sputtering processes and applications. The latest advanced power supply from Magpuls is able
主要目的是從中央控制室(很遠處，在無塵室外頭)要掌握生產線上使用的每一個EMICON工作站(個別IP)的狀況，以及從中央控製室對各別的EMICON線上工作站下達對應製程的製程參數(RECIPE)。例如: 對大型設備而言，特別是多腔體(multi-chamber)的生產線，線上有很多套EMICON工作站。 單一機台(設定localhost)使用的目的，在於把EMICON隱藏起來，不讓別人知道他們使用的是EMICON。 另一個目的在於有效整合自己的程式系統，或是製作他們自己要用的統計資料來做線上的用途。
Definitions Usually the definitions of two important quality factors – homogeneity and uniformity – are easily mixed up in a
This is an interesting question asked often while one touches and senses the plasma by optical emission spectrometry. The
On a PECVD process to coat SiO2 layer with SiH4 precursor reacted with oxygen, a quartz collimator with a honey
回顾等离子工艺使用OES (Optical Emission Spectroscopy)的历史，早在1980年代，已有不少大型的玻璃工业尝试使用OES来协助等离子工艺在量化生产的稳定性，同时，也利用OES的特殊性能开发等离子工艺能够使用的新材料。1990年初期，OES著名的代表产品称为PEM (Plasma Emission Monitor)正式在生产大楼帷幕玻璃的等离子溅射流水线上使用，从single Low-e的能源玻璃进化到更具节能效果的double Low-e规范，到了1990年末期，更应用在平面显示器的镀膜工艺上。在2000年以前发展的PEM，多半采用 窄通滤光器 NBPF (Narrow Band-Passed Filter)搭配一个极为灵敏的 光电倍增管 PMT (Photo Multiplier Tube)，透过一套单晶片的处理器计算侦测讯号强度与内部设定强度的差异，将差异值输出到控制反应气体的流量单元: 早期使用的多半是一个
进行等离子溅射镀膜工艺时，有三项宝物是不可或缺的。 等离子工艺监控器 (plasma monitor and process controller) 脉冲式直流电源 (pulsed DC power supply) 或是 中频交流电源 (MF AC power supply) 磁控溅射靶 (magnetron sputtering source) 或称 阴极靶 (cathode source) 第1项的等离子工艺监控器主要负责镀膜的质量与镀率的稳定。
