Plasma Circus
分類:
Pulsed Power Supply – MF & HIPIMS
反应式等离子溅射镀膜工艺的三宝
12 月 19, 2011
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作者:
Robert Jann
分類:
Closed Loop PID Control For Reactive Sputtering Applications
,
Magetron Sputtering Sources
,
Pulsed Power Supply – MF & HIPIMS
进行等离子溅射镀膜工艺时，有三项宝物是不可或缺的。 等离子工艺监控器 (plasma monitor and …
