推薦: 通過脈衝分辨光譜和電等離子體製程控制即時優化 HIPIMS 製程
Optimizing HIPIMS Processes in Real-Time by Pulse-Resolved Spectroscopic and Electrical Plasma Process Control Speaker: Jan-Peter Urbach – PLASUS GmbH 2025/5/22 pm3:40 – pm4:00 SVC TechCon 2025 HIPIMS製程和其他脈衝等離子體製程越來越多地用於研發和生產的塗層應用。瞭解和控制脈衝中顆粒密度的行為對於在沉積速率、薄膜成分和形態方面進一步優化塗層製程至關重要。這需要能夠即時獲取脈衝分辨過程數據的等離子體監控和過程控制技術。光譜和電等離子體監測和過程控制技術的最新發展克服了僅進行脈衝平均數據採集的限制。此外，它現在即時提供脈衝分辨粒子密度資訊。本演示將以合理的費用在多通道設置中演示具有前所未有的時間解析度和採樣率的連續、脈衝解析度和電學數據採集。由於最小積分時間比典型的 HIPIMS 脈衝小得多，因此可以實時監測粒子密度的時間行為以及脈衝內的電壓和電流。此功能有助於研究和瞭解不同製程參數（例如不同的脈衝模式和模式）下 HIPIMS 脈衝中的顆粒動力學。特別是，可以跟蹤脈衝分辨顆粒的組成，從而可以動態優化電離度和金屬與反應氣體的比例。這項新技術為研發人員提供了新的機會，以定製具有先進或新性能的塗層，並將提高工業應用中的製程穩定性和生產品質。 Name Optimizing HIPIMS Processes in Real-Time by Pulse-Resolved Spectroscopic…